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电子薄膜与集成器件国家重点实验室再次获评优秀实验室

文：电子薄膜与集成器件国家重点实验室来源：电子薄膜与集成器件国家重点实验室时间：2018-01-15 10234

　　1月12日，科技部公布2017年度信息科学领域国家重点实验室评估结果，我校电子薄膜与集成器件国家重点实验室再次被评为优秀实验室。这是继2012年获评优秀实验室后，电子薄膜与集成器件国家重点实验室再次获此殊荣。

　　国家重点实验室运行评估每五年开展一次，评估由初评、现场考察和综合评议三个阶段组成。初评答辩于2017年6月27日-7月2日在北京集中进行，评估专家组通过听取实验室五年工作报告，对实验室进行初步排名，我校实验室的初评答辩受到与会专家的高度评价。现场考察于2017年8月8日在我校进行，以孙家广院士为组长的现场考察组听取了实验室五项代表性研究成果报告，现场考察了实验室，审核了有关材料并进行了个人访谈。对五年来实验室取得的重要工作进展，现场考察组予以充分肯定。综合评议于2017年8月29日在北京进行，专家组通过综合评审集体讨论，最终确定本次评估结果。

　　电子薄膜与集成器件国家重点实验室有关负责人表示，本次评估所取得的优秀成绩，为实验室进一步发展奠定了良好基础。实验室将以此次评估为新的起点，进一步加强基础科学问题的凝练、高层次人才队伍的聚集和高水平科研平台的构建，争取出更多的代表性成果，为国民经济和国防建设作出新的更大贡献。

　　相关链接：

　　《科技部关于发布2017年信息领域国家重点实验室评估结果的通知》